膜厚量测设备

手动式：NS-20

• 手动测量，极高灵活度
• 标准版光斑0.8~1.5 mm
• 可升级到0.2 mm 微小光斑（NS-20 Pro)
• 可定制便携手提箱，随时随地进行膜厚分析
• 可选配大尺寸样品台

NS-20系列 参数规格

型号	NS-20UV	NS-20	NS-20NIR
波长范围	190 nm – 1100 nm	380 nm – 1050 nm	950 nm – 1700 nm
厚度测量范围1	1 nm – 40 μm	15 nm – 80 μm	150 nm – 250 μm
准确度2	1 nm 或 0.2%	2 nm 或 0.2%	3 nm 或 0.4%
精度3	0.02 nm	0.02 nm	0.1 nm
稳定性4	0.05 nm	0.05 nm	0.12 nm
光斑大小	1.5 mm	1.5 mm	1.5 mm
测量速度	< 1s（单次测量）	< 1s（单次测量）	< 1s（单次测量）
光源	卤钨灯 + 氘灯	卤钨灯	卤钨灯
样品尺寸	直径从1mm 到 300mm或更大	直径从1mm 到 300mm或更大	直径从1mm 到 300mm或更大

1 取决于具体材料

2 Si/SiO2(500~1000nm)标样片

3 计算100次测量500nm SiO2标准片的1倍标准偏差，对20个有效测量日的1倍标准偏差取平均

4 计算100次测量500nm SiO2标准片的平均值，对20个有效测量日的平均值做2倍标准偏差

自动式：NS-30

• 样品自动测量，平台尺寸100mm~450mm可选
• 软件根据需求自动生成测量点位分布
• 2D和3D测绘效果，包含厚度/折射率/反射率等信息
• 可测量薄膜应力和表面弯曲（Stress/Bow)

NS-30系列 参数规格

型号	NS-30UV	NS-30	NS-30NIR
波长范围	190 nm – 1100 nm	380 nm – 1050 nm	950 nm – 1700 nm
厚度测量范围1	1 nm – 40 μm	15 nm – 80 μm	150 nm – 250 μm
准确度2	1 nm 或 0.2%	2 nm 或 0.2%	3 nm 或 0.4%
精度3	0.02 nm	0.02 nm	0.1 nm
稳定性4	0.05 nm	0.05 nm	0.12 nm
光斑大小	1.5 mm	1.5 mm	1.5 mm
测量速度	< 1s（单次测量）	< 1s（单次测量）	< 1s（单次测量）
光源	卤钨灯 + 氘灯	卤钨灯	卤钨灯
样品尺寸	直径从1mm 到 300mm或更大	直径从1mm 到 300mm或更大	直径从1mm 到 300mm或更大

1 取决于具体材料

2 Si/SiO2(500~1000nm)标样片

3 计算100次测量500nm SiO2标准片的1倍标准偏差，对20个有效测量日的1倍标准偏差取平均

4 计算100次测量500nm SiO2标准片的平均值，对20个有效测量日的平均值做2倍标准偏差